精密測定機器販売と研究開発支援の技術商社

センサ（蒸着制御機器）

通常の蒸着には、水晶振動子1枚のスタンダード、コンパクトおよび2枚のデュアルセンサを、さらに長い交換サイクルが必要な場合に効果を発揮する水晶振動子6枚のクリスタル6あるいは、水晶振動子12枚のクリスタル12を推奨します。
チャンバーを高温にベーキングする真空装置にはベーカブルセンサを、スパッタプロセスにはスパッタセンサを用意しております。蒸着用膜厚モニタ

蒸着用膜厚モニタ Q-Pod™

パソコンのUSBポートに接続し、付属ソフトを起動するだけで簡単に蒸着モニタが行えます。


特徴
1.操作が簡単なトランスデューサ型
　Q-Pod™にお客様のUSB付きPCと付属のUSBケーブルおよびQ-Pod™と検出器を付属のBNCケーブルで接続し、付属ソフトを立ち上げれば、蒸着モニ　タが完成です。
2.一台のPCでQ-Pod™８台をモニタ
　お客様のPCのUSBポートを増設すれば、Q-Pod™を8台までモニタできます。
　なお、Q-Pod™は、1台に付きUSBの1ポートを使用します。
3.使いやすい専用ソフト
　付属の専用ソフトは、データロギング、グラフ表示、蒸着パラメータの設定が簡単な操作で行えます。
4.USBインターフェース
　インターフェースは、ポピュラーなUSBポートのみで、Q-Pod™への電源もUSBポートから供給されます。

用途

膜厚モニタ

蒸着用膜厚モニタ SQM160

膜厚モニター（SQM160）は、蒸着源のコントロールが必要ない場合に最適な低価格のデポジション/エッチングのプロセスモニタです。
表示単位は、レートや膜厚単位（Å）のみならず、質量単位（ng）や周波数単位（Hz）での表示が可能です。センサー入力は2ch（切り替え）で、オプションで8chまで増設が可能です。

特徴
1.センサーチャンネル数2ch標準
　標準でセンサー2ch実装しており、デュアルセンサーにも使用可能です。
　さらに、オプションで4chを追加可能でき最大6chまで拡張できます。（切替ての測定）
2.レコーダ出力2ch
　レコーダ出力には、レートおよび膜厚の2chのアナログ出力を標準装備しています。
　出力電圧は、0～5V
3.タイプのモニター表示単位
　モニター表示値は、レートと膜厚以外に周波数あるいは質量表示ができます。

用途

膜厚モニター

蒸着用膜厚コントローラ SQC310

蒸着用膜厚コントローラSQC-310は多層膜蒸着制御、SQC-310は同時蒸着制御まで幅広い用途に対応が可能な低価格でありながら多機能でコストパフォーマンスに優れた蒸着制御器です

特徴
1.多層膜用途に大きなデータ保存数
　プロセス数100、レイヤー数1000、フィルムデータ50のデータ保存ができ、シーケンシャルな成膜用途に適しています。
　なお、同時蒸着成膜用途にはSQC310Cを用意しています。
2.充実したセンサー、ソース制御チャンネル数およびI/O点数
　標準タイプでは、センサー2ch、ソース制御2ch、デジタル入力8点、リレー出力8点を実装。
　4chタイプでは、各信号は標準タイプの2倍となります。SQC310Cではセンサー4ch、ソース制御4ch、デジタル入力16点、リレー出力16点が標準実装　となります。
3.見やすいモニター画面
　大画面カラー液晶ディスプレィで、表示値やグラフィック表示が見やすくなっています。

用途

薄膜の蒸着制御

蒸着装置 蒸着制御器 TXC/3

シングル、マルチレイヤープロセス薄膜蒸着コントローラーに必要なすべての機能を1台の装置で実現しました。
XTC/3はModeLock技術を使用し、モードホイッピング防ぎ、高い蒸着精度を保証します。
また、実質的にレイヤー数に制限の無い多層薄膜の蒸着速度と膜厚の精密コントロールが可能となり、しかも設置が簡単で極めて高い信頼性を持つこの装置は生産性向上に大きく寄与します。

特徴
1.シングルレイヤ対応モデルとマルチレイア対応モデルをお選びできます。
2.特許を取得したModeLock技術がホイッピングに起因する膜厚誤差を防ぎます。
3.INFICONのCrystal12、CrystalSixおよびデュアルセンサーにも対応し最高の生産性を実現します。
4.マルチレーヤモデルであるXTM/3Mは99までのプロセス、999までのレイア数、32枚までのフィルム、さらにに2個のセンターと2種類の蒸着源をサ　　ポートします。
5.シングルレイアモデルであるXTC/3Sは9枚までのフィルムと2個のセンサ、2種類の蒸着源をサポートします。蒸着制

用途

薄膜の蒸着制御

蒸着制御装置 蒸着制御器 IC 6

IC6は、物理的蒸着用に設計されたクローズドループのプロセス制御器です。
この制御器は、半導体、電子部品製造及び光学機器のコーティング産業において製造、研究に使用することに最も適しています。
熱蒸着、スパッタリングプロセスによって蒸着される薄膜の蒸着レート及び膜厚をモニタあるいは制御します。設定する時間、膜厚、パワー及び必要とするレートを材質の特性に基づいて正確で再現性の良いプロセスで自動的に制御します。

特徴
1.オートZ機能
　従来の蒸着制御器の欠点は、蒸着物質のZレシオ（弾性インピーダンス）がわからなければ正確に測定できない事でした。オートZ機能は、これらの　問題をMODELOCK™を採用することで解決しました。
　この機能は同時蒸着や多層蒸着において、非常に効果を発揮します。
2.オートチューニングコントロール機能
　蒸発源に対して従来の制御器は、チューニングする事が非常に困難でした。
　満足するような結果を得るには数時間を要する事もありました。
　IC6のオートチューニングコントロール機能は、これが可能です。
3.2元同時蒸着測定/制御対応（標準）
　2つのレイヤーの同時蒸着の場合、クロストーク（お互いの蒸発源からの物質が互いのセンサーに飛び込みによる干渉）補正機能ができます。
　最大6ソースからの同時蒸着制御ができます。この場合は、クロストーク補正機能は設定できません。


用途
薄膜の蒸着レート及び膜厚をモニタ、制御　

真空計 クリスタルゲージ 　M-320XG

大気圧から1×10-2Paまでの広い範囲にわたって、信頼性の高い測定が出来ます。
水晶振動子の共振インピーダンスが圧力に応じて変化するという現象を利用していますので、はるかに再現性が高く、また大気圧付近での安定性の
高い測定が可能です。
チャンバの大気圧ベント検出用の圧力スイッチとして、またプロセス圧力の測定などにも使用が可能です。

特徴
1.広い測定範囲
　大気圧から1×10-2Paまで、優れた再現性で測定が可能
2.高い安全性
　クリスタルゲージは、熱源（フィラメント）を持たない真空計
3.コンパクト、超軽量
　コントローラ部は、手のひらサイズ、質量はわずか200g

※A-NET表示器　M‐390・M-391、M-320XG専用の表示器です。
※シングルチャンネル対応です。

用途
1.各種真空装置のあら引き圧力の測定
2.各種プロセスの圧力測定
3.チャンバーベント等の検出用圧力スイッチ
4.その他大気圧から10-2Pa台迄の圧力測定

真空計 表示器(1ch、3chﾀｲﾌﾟ）　M-601GC/603GC

トランスデューサ型真空計シリーズ対応表示器です。
大型デジタルLCD表示で見やすく、操作性も大幅に向上。
現場の利便性を追及した様々な工夫が詰まっています。
用途に合わせて1chタイプと3chタイプがご選択いただけます。


特徴
1.ゲージ自動認識
2.大型デジタルLCD表示
3.RS 232 Cインターフェース標準装備
4.優れた操作性
5.同時表示可能（3ch）
6.見やすい3タイプ表示（3ch）
デジタル表示、トレンドグラフ（最長18H）

真空計 クリスタルイオンゲージ 　M-336MX

低真空領域の測定には優れた再現性と応答性をもつクリスタルゲージを、高真空領域には長年の実績を誇るミニチュアB-Aゲージを
採用したコンビネーションゲージです。大気圧から超高真空まで、広い圧力領域をこの1台で測定できます。


特徴
1.クリスタルゲージとミニチュアB-Aゲージを組み合わせたコンビネーションゲージ
2.超高真空から大気圧
3.高精度、低真空領域において優れた再現性


用途
真空装置の粗引き・到達圧力測定、半導体・電子部品製造装置の圧力測定など

真空計 イオンゲージ　　　 　M-311HG

トランスデューサ真空計シリーズのイオンゲージです。イオンゲージ（熱陰極電離真空計）は再現性、リニアリティーがよく、
広範囲な圧力測定が可能で真空計として優れた特長を持っています。センサーは実績のあるミニチュアゲージ（MG-2Iタイプ）を使用しています


特徴


1.ワイドな圧力測定範囲
10-7Pa～10Paまで、超高真空側の特性を犠牲にすることになく、スパッタプロセスを超える低真空領域まで測定可能
2.高応答アナログ出力
圧力値のアナログ信号出力は、100msec以内と高い応答性を確保し、プロセス圧力コントロールにも使用可能
3.4つのエミッション電流設定モード
高圧力領域側での使用時のフィラメント寿命改善など、用途に合わせ選択が可能

用途
1.生産用真空装置の圧力測定
2.半導体スパッタリング装置の圧力測定
3.各種真空装置

真空計 コールドカソードゲージ 　M370CG

熱フィラメントを使用しておらず堅牢なコールドカソードゲージ(冷陰極電離真空計)です。
高真空から超高真空まで安定した圧力測定を実現します。

特徴
1.優れた測定安定性
　未放電による測定停止、圧力表示値のフラツキを削減
2.高真空下での良好な機動性
　未放電、放電遅れを解消
3.簡易なメンテナンス
　・メンテナンスは部品交換のみ

※水素や酸素といった活性ガスの分圧が高い環境や、これらのガスを大量に使用する環境では、CCゲージの放電開始が著しく遅れる場合があります。そのような環境でご使用になる場合は、弊社にご相談ください。

用途
1Pa～超高真空まで、各種真空測定に幅広く対応
・蒸着、スパッタリング、イオン注入、MBE
・SEM、SIMS、AES、XPS、各種表面/ガス/質量分析
・アニール、溶解、はんだ、リフロー、硬化、電子ビーム溶接
・加速器、サイクロトロン

真空計 ピラニーゲージ（耐蝕性）M-351PG

Niフィラメントを採用し、耐蝕性を向上させ、RIE、CVDなどのハードプロセス装置に対応したモデルです。

特徴
1.耐食性の向上　Niフィラメント採用等
2.再現性がよく低価格
3.5×10-2Paから大気圧

用途
1.半導体、電子デバイス製造装置
2.ドライエッチング装置、プラズマCVD装置、LD-CVD装置など
3.食品・医薬品製造装置
4.真空凍結乾燥、真空蒸留装置、滅菌装置など

真空計 コールドカソードピラニーｹﾞｰｼﾞ　M-361CP

大気圧～中真空を測定するピラニゲージと、高真空～超高真空を測定するコールドカソードゲージを組み合わせたコンビネーションゲージです。
1台で広い圧力領域を測定可能です。
1台2役でシステムのコストダウンや管理負荷低減に貢献します。

特徴
優れた測定安定性
・ピラニとコールドカソードの切替不良、未放電による測定停止、圧力表示値のフラツキを低減
2.優れた大気圧検出を実現
・本器搭載のピラニゲージは、大気圧付近で安定性・再現性が高く、応答性は隔膜真空計と同等
3.簡易なメンテナンス
・コールドカソードのメンテナンスは部品交換のみ

※水素や酸素といった活性ガスの分圧が高い環境や、これらのガスを大量に使用する環境では、CCゲージの放電開始が著しく遅れる場合があります。そのような環境でご使用になる場合は、弊社にご相談ください。

用途
超高真空～大気圧まで、各種真空測定に幅広く対応
(例)
エレクトロニクス・光学：蒸着、コーティング、電子ビームマスク描画、スパッタリング、イオン注入、MBE
分析：電子顕微鏡、SIMS、AES、XPS他、各種表面/ガス/質量分析
各種工業：アニール、溶解、はんだ、リフロー、硬化、電子ビーム溶接、冶金、分子蒸留、ガス充填
高エネルギー物理：加速器、サイクロトロン

真空計 ピラニーゲージ 　M-350PG

大気圧から測定できる手軽さと、高いコストパフォーマンスを併せ持つ用途の広いピラニ真空計です。
低・中真空領域の測定用として、各種システム搭載用として、食品、自動車、医薬品をはじめ、様々な産業でご使用いただけます。


特徴
1.再現性がよく低価格
2.5×10-2Paから大気圧
3.低・中真空領域の測定に最適


用途
粗引き系の圧力測定、排気系の圧力モニタ、制御など

真空計 キャパシタンスゲージ M-342DG

キャパシタンスゲージ“M-342DG”は、圧力センサ部に新開発の小型シリコンMEMSチップを採用することで、温度、振動、気圧変動などの
外部環境から受ける影響を最小限に抑え、高精度で安定した圧力測定、最小限のゼロ点調整頻度を実現した隔膜真空計です。

特徴
1.高精度で安定した圧力測定
・優れたゼロ点安定性
・温度依存性が低く、優れた安定性を温度調整機構なしで実現
・優れた対振動ノイズ性能
2.コンパクト・低消費電力
・質量200g、サイズW46mm×H49mm×L106mmと軽量でコンパクト（※1）
・消費電力0.5W


用途
真空中の圧力の高精度・長期間安定測定に幅広く対応
半導体、ディスプレイ、太陽電池など各種真空装置
・スパッタリング、PECVDなどの真空成膜プロセス圧力の制御、モニタリング
・ロードロック室、ウエハ冷却などのガス導入プロセス、システムの圧力管理
医療、バイオ、食品他各種産業、並びに各種研究開発用途
各種コーティング、プラズマ処理、真空封止、真空炉、分析装置、滅菌、真空ポンプ評価、分子蒸留　など

測定球 ヌードイオンゲージ NIG-2F/NIG-2TF

ヌードイオンゲージ NIG-2F/NIG-2TF

B-A型電極をフランジに直接マウントしています。このまま装置に取付けますので、導管による誤差がなく超高真空の測定に適しております。
グリッドには白金クラッドモリブデン線を用いておりますのでガスの汚染による誤差を極小にしております。
NIG-2Fはタングステンフィラメントを使用しております。また、NIG-2TFはイットリアコートフィラメントを使用して低温度化し、ガス放出を抑えて超高真空の測定を有利にしています。

測定球 ワイドレンジB-Aゲージ BRG-1B

測定球 ゲージ球 B-Aゲージ UGD-1S

B-Aゲージ UGD-1S

10-2Pa台以下の圧力測定用のガラス管封入型B-A型電離真空計測定球です。
UGD-1Sはコバールガラス封止のB-Aゲージです。グリッドはタングステン線で、通電加熱でガス出しが行なえます。
また、このためガス出し中でも圧力の測定が行なえます。

測定球 ゲージ球 シュルツゲージ球

シュルツゲージ LG-11S
100Pa～10-2Paの間の圧力測定用の電離真空計測定球です。
LG-11Sフィラメントにはトリアコートイリジウム線を用いておりますので、使用温度が低く、それだけ長寿命に使えます。真空装置との接続はφ15アダプタを用いるかまたはφ70ICF付のガラスアダプタへガラス封着を行ないます

測定球 ミニチュアゲージ

ミニチュアゲージは金属製の小型ゲージ球です。
到達圧力からスパッタ等のプロセス圧力（1Pa台が測定可）までの圧力計測が1つのゲージで行なえます。
ゲージアダプタ（O-リング差込み式）に接続するタイプ。（φ15mm、φ18mm）
ＮＷ16・25、φ34ICF、φ70ICFタイプを揃えています。

真空計 電離真空計 M-723HG、M-823HG、M-923HG

多様なゲージに対応する豊富な拡張ボードを備えた最も一般的なB-A型電離真空計シリーズです。
真空装置のプロセスコントロールに必要な遠隔操作機能やレンジホールド機能を標準で備えています。CC-Linkで通信制御を行えるタイプも用意してあります。
M-823HGで大気圧から高真空領域までを1台で高精度にカバーします。


特徴
1.圧力レンジは自動切換
2.圧力及び種々のメッセージが液晶表示
3.豊富な外部制御機能により完全な遠隔操作が可能
4.セットポイントを2点標準装備


用途
1.自動化真空装置の圧力計測
2.スパッタなどのプロセス圧力の測定、制御
3.マルチチャンバシステムでの圧力測定
4.一般真空装置の圧力測定

真空計 ワイドレンジ電離真空計 M-831HG

M-833HGは、ミニチュアB-Aゲージ専用のコントロールユニットです。オプションにて、多用なゲージ、データ出力等に対応する拡張ボードが用意されています。ミニチュアB-AゲージとTCゲージ（オプション）のコンビネーション及び、ゲージの自動切替を行うオートフィラメントの搭載により、大気圧～超高真空までの高精度な真空測定を実現出来ます。高真空～超高真空装置搭載に最適です。


特徴
1.豊富な外部制御機能により完全な遠隔操作が可能
2.セットポイントを2点標準装備
3.最大4ヶのオプションボード取付け可能で機能拡張性が充実
（注記：GP-IBオプションには未対応）
4.RoHS、CEマーキングに対応

用途
1.自動化真空装置の圧力計測
2.スパッタなどのプロセス圧力の測定、制御
3.マルチチャンバシステムでの圧力測定
4.一般真空装置の圧力測定

真空計 ワイドレンジ電離真空計 M-431HG

1.CEマーキング対応
2.外部入出力、RS-232C通信機能を標準装備
3.入力電圧はワイド電圧（M-431HG）
4.低消費電力/DC 24V入力

用途
1.自動化真空装置の圧力測定
2.スパッタなどのプロセス圧力の測定、制御
3.マルチチャンバシステムでの圧力測定
4.一般真空装置の圧力測定

コンパクト型ガス分析システム Cシリーズ

「コンパクト型ガス分析システム Cシリーズ」はキヤノンアネルバの長年の多岐にわたるガス分析への対応実績によって培われたガス分析に関するノウハウを生かして、多様なガス分析のご用途への対応をはかりながら、シンプル＆コンパクトにまとめたガス分析システムです。すでにマスフィルタを所有されている場合は、後付けのガス分析用排気ユニットとして、分析管の無い構成でもご注文いただけます。

特徴
1.フレキシブルにカスタマイズが可能
　基本構成（排気系＋マスフィルタ）を選択、さらに各種ご用途を想定し、あらかじめ設定されている推奨オプション類を選択・付加することによって、お客様のご　用途に最適なシステム構成とすることが可能です。
2.省スペース
　W480mm×D500mmの省スペースに設置が可能です。
3.簡単操作
　シンプルでありながら、基本的なインターロック機能を標準装備し、安心してご使用いただけます。


用途
研究開発用途ガス測定
炉内ガス分析、モニタリング
真空熱処理炉、真空浸炭炉、真空浸窒炉、金属溶解炉、バイオガス化炉、
電子ビーム式溶解炉（EB炉）、ウエハ引上炉　など
昇温脱離ガス分析
触媒反応ガス分析

プロセス装置用途ガス分析
真空装置のプロセスガス測定
真空装置の残留ガス測定／リーク検出

コンパクト型ガス分析システム Dシリーズ

四重極型質量分析計の応用技術製品です。各種ガス分析、研究開発分野において最適なガス分析システムです。
用途に合わせて、四重極型質量分析計にTMP排気系とオプションの組み合わせができるフレキシブルな構成となっております。

特徴
1.カスタマイズシステム
・用途に合わせて、四重極型質量分析計、ガス導入系、その他オプションを組み合わせシステムアップ可能
・分析計はM-101QA-TDF、M-101/201QA-TDM、M-401QA-M(高感度/高速)の5機種より選択可能
2.小型、省スペース
・小型架台に四重極型質量分析計、TMP排気系を搭載したコンパクトな構造
3.容易な操作性
・パソコン制御による容易な測定が可能

用途
真空装置残留ガス分析
熱天秤放出ガス分析
昇温脱離ガス分析
炉内ガス分析、モニタリング
真空熱処理炉、真空浸炭炉、真空浸窒炉、金属溶解炉、バイオガス化炉、
電子ビーム式溶解炉（EB炉）、ウエハ引上炉　など
密封ガス分析　等

四重極型質量分析計（高速測定／高感度測定） M-401QA-MU/G

質量数１～410m/zまで測定が可能な高性能・高機能の四重極型質量分析計です。
M-401QA-MGSY/MUSYは、汎用型質量分析計として、10倍（当社比）の高速測定を実現しました。
四重極型質量分析計（高速測定／高感度測定）　M-401QA-MU/G RoHS_category9


特徴
1.高速測定対応（M-401QA-MGSY/MUSY）
　M/e＝1～400m/zを1秒間隔でデータ取得
2.2種類のイオン源
　UHV型（かご型）、ガス導入型（箱型）の選択が可能
3.高感度（M-401QA-MGHY/MUHY）
　8桁のダイナミックレンジ
4.低ガス放出分析管
　低ガス放出のイオン源を採用、デガス機能有り


用途
　加速器真空ガスモニタ
　無機ガス分析
　熱天秤放出ガス分析
　昇温脱離ガス分析
　微量ガス分析
　PFCガス分析

四重極型質量分析計（トランスデューサタイプ） M-070QA-TDF、M-101QA-TDF、M-101/201QA-

M-101QA-TDF、M-101/201QA-TDMは高感度・高機能で低ガス放出を実現したPC制御専用の四重極型質量分析計です。
M-070QA-TDFは各種真空装置の残留ガスモニタに最適な、低価格版です。

特徴
1.高感度
・検出器に2次電子増倍管を使用（M-101/201QA-TDM）
2.低ガス放出分析管
・低ガス放出のイオン源を採用
・デガス機能有り（※1）
3.優れた基本性能―高度な分析に対応―
・イオン化電圧、エミッション電流の細かい設定が可能（※1）
・広いダイナミックレンジ

※１：M-070QA-TDFは対象外

用途
残留ガスモニタ、加速器等の真空モニタ、無機ガス分析、昇温脱離ガス分析、等

四重極型質量分析計（プロセスガスモニタ） M-080QA-HPM

M-080QA-HPMは、10-9Pa～1.3Paの広範囲で動作可能な四重極型質量分析計です。
独自の技術により、超高真空とスパッタリングプロセス中の圧力領域を同一計測器で測定可能です。
成膜中のガスを監視できるため、ガス異常・リーク等の不具合を検知し、プロセス異常による製品不良を未然に防ぐことができます。

特徴
1.チャンバー到達圧力からスパッタプロセス圧力までをシームレスに測定
2.成膜中に高感度で水素を検出可能
3.メンテナンスサイクルが長く、低ランニングコスト
4.様々なアラーム機能により生産中に異常を検出


用途
成膜中の品質管理
残留ガス分析
リークチェック

ヘリウムリークディテクタ HELENシリーズ M-212LD（-D）/M-222LD（-D）/M-232LD

1.イージーオペレーション
　ボタン操作1つで機器の立ち上げから測定までが可能
2.業界最高レベルの感度、安定性、応答性を実現
　10-12Pa･m3/sの高感度と長時間の使用に対しても高い安定性を実現
3.イージキャリー
　可搬に便利な大型キャスタ、ハンドル等フィールドサービスを目的とした利用にも対応可能
4.耐久性を重視した堅牢設計
　長寿命タングステンフィラメントを採用することにより、長期間、高感度測定が行えます。また、24時間稼働のシステムへの搭載を前提に各部を堅牢な設計