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特徴

Niフィラメントを採用し、耐蝕性を向上させ、RIE、CVDなどのハードプロセス装置に対応したモデルです。

特徴
1.耐食性の向上　Niフィラメント採用等
2.再現性がよく低価格
3.5×10-2Paから大気圧

用途
1.半導体、電子デバイス製造装置
2.ドライエッチング装置、プラズマCVD装置、LD-CVD装置など
3.食品・医薬品製造装置
4.真空凍結乾燥、真空蒸留装置、滅菌装置など

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